光刻机是做什么用的？
光刻机是做什么用的？
掩模对准机又称：掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心设备。它采用类似照相印刷的技术，通过曝光将光罩上的精细图案印刷到硅片上。
高端投影光刻机可分为步进投影光刻机和扫描投影光刻机两种。分辨率通常在七纳米到几微米之间。高端光刻机被誉为世界上最精密的仪器。全球有1.2亿美元的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业的花朵，其制造难度之大，全球只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要有荷兰的ASML（镜头来自德国）、日本的Nikon（intel曾经采购过Nikon的高端光刻机）和日本的Canon。
延伸资料
在半导体领域，尤其是企业中，光刻机是2019年和2020年的热门话题。说到光刻机。
可能出口到我们的DUV光刻机生产7nm芯片，但是进口的EUV光刻机出口到其他公司生产5nm芯片。就连谷歌、高通、ASML这些不专门做芯片生产的公司，也有卖他们的EUV光刻机。
光刻机是做什么用的？
光刻机（Mask Aligner）又称：掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片核心设备。它采用类似照相印刷的技术，通过曝光将光罩上的精细图案印刷到硅片上。
光刻机按照操作的简单程度一般分为手动、半自动、全自动三种
手动：指的是对位调整方式，即手动调节旋钮改变它的X轴、Y轴和thita角来完成对位，对位精度并没有想象的那么高。
B半自动：是指可以通过电动轴根据CCD的位置来调整对中。
C自动：指从基板上片，曝光时间和周期由程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对加工能力的需求。
好了，光刻机是什么，光刻机叫什么的问题就到这里了，希望能解决你的问题！
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